Compartir
Atomic Layer Deposition (en Inglés)
Cameron, David C. (Autor)
·
Mdpi AG
· Tapa Dura
Atomic Layer Deposition (en Inglés) - Cameron, David C.
$ 187.729
$ 312.881
Ahorras: $ 125.153
Elige la lista en la que quieres agregar tu producto o crea una nueva lista
✓ Producto agregado correctamente a la lista de deseos.
Ir a Mis Listas
Origen: Estados Unidos
(Costos de importación incluídos en el precio)
Se enviará desde nuestra bodega entre el
Lunes 15 de Julio y el
Miércoles 24 de Julio.
Lo recibirás en cualquier lugar de Colombia entre 1 y 5 días hábiles luego del envío.
Reseña del libro "Atomic Layer Deposition (en Inglés)"
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component compounds to elemental metals and structures with compositions that can be adjusted over the thickness of the film. It has expanded from a small-scale batch process to large scale production, also including continuous processing - known as spatial ALD. It has matured into an industrial technology essential for many areas of materials science and engineering from microelectronics to corrosion protection. Its attributes make it a key technology in studying new materials and structures over an enormous range of applications. This Special Issue contains six research articles and one review article that illustrate the breadth of these applications from energy storage in batteries or supercapacitors to catalysis via x-ray, UV, and visible optics.
- 0% (0)
- 0% (0)
- 0% (0)
- 0% (0)
- 0% (0)
Todos los libros de nuestro catálogo son Originales.
El libro está escrito en Inglés.
La encuadernación de esta edición es Tapa Dura.
✓ Producto agregado correctamente al carro, Ir a Pagar.